氧化铝陶瓷窑炉、高纯氧化铝饼烧结窑炉图片
炉体结构 密封结构 备注：本文仅供参考，根据客户要求设计制造，更多规格、参数以及详细技术方案可来电索取。
炉衬结构 连续生产工艺下制备材料时，优良的热场是除气氛外的另一个必要条件。为使热场均匀，加热元件的布置方式非常重要，辐射形成的热场应在确定范围的不同位置上，其偏差在额定的指标内。
根据上述工艺要求，设计一种用于材料连续式制备工艺的辐射式加热结构：加热元件在独立腔体内与合成室隔离，通过流量控制阀调节气体流量，使加热元件腔体相对合成室维持微正压，因此合成室内的气体就很难进入加热元件腔体，从而达到加热元件的长寿命化；同时，均热隔离板的存在，使加热元件与制品之间保持合理距离，避免了局部高温，有利于合成室的温度均匀恒定。该结构一方面保证加热元件较长的工作寿命；另一方面又能满足辐射热的较好传递并获得均匀的热场。
炉膛材料：顶砖均采用刚玉莫来石材质（氧化铝含量≥80%），炉膛保温材料采用莫来石聚轻砖（TJM26）以及日本阿尔赛陶瓷纤维板砌筑。防腐蚀，隔热效果极佳，热容量小，节能环保。
滑道采用99刚玉瓷导轨材质（氧化铝含量≥99.5%），结构采用异型耐火砖支撑五点滑轨结构，提高传热效果、降低推板和导轨的摩擦以及有效降低能耗。
炉体密封 本设备为满足直通式的窑腔通道内氧分压要求，将采用全密封炉体、气氛隔离仓（前后各1个）与气幕相结合的方式进行密封。
为了确保设备内稳定的氧分压和气流走向，设备除炉体采用全密封结构外，在制品出、入口处还将设置相互联锁的双闸门过渡密封仓结构。同时设置大流量惰性气体垂直气幕封门，使空气不能进入炉体内。当密封仓内的产品出来后，两闸门都紧闭时，对密封仓进行强制性清洗换气，并在内闸门再次打开之前，将仓内氧分压从21%降低到50PPm以下。严格保证在密封仓清洗换气之后，内闸门打开之前，密封仓内部的惰性气体压力和氧分压等同于炉体与密封仓相接处的压力和氧分压值。运行过程中，炉体出、入口处的气幕将始终保持，从而阻止外界气流对合成区域的干扰，在确保炉内气氛满足工艺要求的前提下尽可能降低保护气体的消耗。
⑵ 保证气氛的稳定、均匀
对制备设备而言，在炉体内部砌有炉衬，合成室内装有窑具及制品，由于各处流体阻力不同，在炉衬的各个缝隙及制品堆垛之间的阻力相差很大。应采用多点层流净化结构。工艺气体由炉底多点均匀进入，从炉顶排出。高纯氮气由炉底进入合成室，由下向上以一定的推力将空气从炉顶出口管排挤出去，直到最后合成室内全部充满高纯氮气，并有高纯氮气从出口管逸出。这样，既可保证合成室内气氛洁净，所消耗的气量又是最少。
沿设备长度方向，设置保护气体总输入管，在各区段的分支，经过调节阀的必要调节和流量计的流量监测，向加热室输入所需要的高纯氮气，并经过加热组预热后进入合成区段。同时，在设备各控制段都设置氧分压和压力抽样检测点，随时检测窑腔横截面上各点的氧分压和气氛压力。窑体进气全部采用下部进气，废物排放区上部排气方式：保护气体进入窑内后，先进入下加热室，经加热室预热以后分多点层流式进入炉膛。
⑶ 炉内的气氛清洗
为了达到合成室内的氧含量要求，除了设备严格密封外，加热室空腔及耐火保温材料释放的气体应采用独特的炉内气氛清洗技术：下加热室逐个清洗；上加热室由一路保护其余各加热室。另外，制备设备顶部、加热室等处都预留放气阀，当制备设备初次启用并充入保护气体时，以较大的压力通以较大流量的保护气体，同时打开设备各顶盖板、加热室盖板上的放气阀，以排除窑内衬所吸收的氧气，保证恒温区氧含量为10PPm。
整个设备配置一台电化学式氧含量分析仪，用来检测炉内氧含量。
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许娜
