氧化锆工业窑炉，石墨烯烧结炉价格
低氢技术、气氛控制技术
传统的还原设备采用高氢钼丝炉，以氨分解气作为工艺气体，钼丝作为加热元件，窑炉气氛氢含量达75%，有关大学及研究单位在实验室做出的兰绿粉优良的性能结果，在企业投产时，性能相差较大。高氢窑炉成为影响兰绿粉，特别是兰粉性能的主要原因。
将氢含量降低至5—10%是高性能兰绿粉的合理工艺条件,经实验，采用钼丝作为加热元件，寿命短，不具有工业价值.。通过对窑炉热工的优化设计和结构的开发，成功的采用硅钼棒加热，达到了工业化使用目的。硅钼棒的表面负荷控制为5w/cm2以下，高温区平均寿命达到5.5月,低温区平均寿命达到10个月。
在低氢炉的开发过程中,成功地采用了热电技术、高温抗氢耐火材料技术、气密硅钼棒塞砖结构、双门氮气置换室、气液转换动力技术、PLC控制技术、气氛控制技术等。
5—10%的工艺氢采用氢气源和氮气源混配而成，由于氢含量低，混配氢的压力应高于氮气压力的20—60%，通过在线式氢气分析仪在线分析混合气的氢含量，经控制装置调节氢气的流量，达到控制、稳定氢气含量的目的。稳定的氢量工艺参数对兰绿粉的产品质量有着重要的影响，在气源压力、炉内工况变化时，气氛控制装置可以实现5%的气氛稳定度。
采用气氛控制技术，将氢气含量控制在50%左右，用于开发中氢绿粉钼丝还原推板窑，将可以有效提高绿粉的产品质量，降低投资成本。
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