氮气纯化设备/制氧机多少钱一台/苏州市高普超纯气体技术有限公司

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 一、碳脱氧型高纯氮气纯化设备


 工艺原理:


 在碳载型催化剂作用下，氮气中的残氧和催化剂本身所提供的碳发生反应，而除去氮气中的氧。


 反应式为：C+O2=CO2


 适用范围:


 适用于高纯度氮气用户，特别适用于磁性材料、电子行业等对氧、氢有严格要求的工艺。


 氮气纯度：99.9995％(O2≤5PPm、CO2≤5PPm)   处理气量：10～500 Nm3/h


 原料氮气纯度：≥99.9％  露水点≤-60℃～70℃


 产品氮气出口压力：0 .1～0.6Mpa


 主要特点:


 1、稳定性好，氧含量在任何时候都能控制在5PPm以下；


 2、纯度高，氮气纯度在99.9995％时能保持长期稳定。


 3、可靠性好，按照IS09002国际标准进行制造。


  二、加氢脱氧型高纯氮气纯化设备


 工艺原理


 :加氢脱氧装置以普氮为原料。经加氢催化除氧、冷却、吸附干燥、再经过滤除去氨气中的杂质、水气和


 尘埃，获得高纯氮气。


    除氧原理：2H2+O2→2H2O+O↑


 主要特点:


 工艺先进------采用国内领先的高效脱氧催化剂。活性好。无需加热，活化再生。


 自动控制------西门子PLC控制，工作再生自动切换可选的质量流量控制器，自动加氢，比值控制。


 工作可靠------采用德国宝得气动阀，日本理化RKC温控仪。


 设计合理------全封闭的设计，结构紧凑、外型美观、占地面积少。


 技术指标:


 处理气量：10～500Nm3/h  原料氮气纯度：≥99.5％．


 产品氨气纯度：99 .9995％  O2≤5ppm  H2：微量


 露水点≤-60℃～70℃  产品氮气出口压力：0.1～0.6Mpa


 三、超高纯气体纯化设备


 ▲采用催化和化学吸附工艺联用，进行氮气纯化，也可用于氩


    气纯化。


  ▲采用专利催化剂，纯化深度高，抗原料气波动能力强


   （200%）。非消耗型填料，使用寿命长。


  ▲进口洁净管道、阀门，Swagelok全自动轨道焊，专利内加热


    抛光反应器，全面保证产品质量。


  ▲集约化箱体包装，全自动运行。


    应用领域：


  ▲高纯单晶硅、晶片外延、大规模集成电路、光电生产等电子


    行业气体终端纯化。


  ▲气体行业超纯气体生产、分析零点气制备。


  ▲钢铁、石化行业氮气纯化。


  


 


 


 四、QC系列氢气纯化装置


 QC系列氢气纯化装置是一种以氢气为原料,通过催化除氧冷却除水,吸附干燥的氢气纯化设备。它主要由预加热器、除氧器、冷却器、冷干机、干燥器、仪表控制系统等部件组成。


 工作原理


    本装置先将原料氢气加热后，使其进入装有钯催化剂的除氧器。在除氧器中氢气中的微量氧与氢气在催化剂作用下，发生氢氧反应生成水汽O2+2H2→2H2O，再经冷凝除水达到除氧之目的。经除氧、除水后的氢气再经装有分子筛的干燥器进行深度吸附干燥处理。从而获得含水量、含氧量极低的高纯氢气。


 主要技术性能


    处理气量：0.5～2000Nm3/h


    原料氢气氧含量：≤2%


    产品氢气氧含量：≤1ppm


    产品氢气露水点：≤－60～－70℃


    产品氮气压力：0.1～1.0Mpa


    干燥器切换方式：自动或手动


    结构形式：带面板的框架结构或箱式


 


  主要特点


      工艺流程简单、除氧深度深、露水点低


      电气装置按隔爆要求设计.采用蒸汽加热，冰水冷却，加热冷却自动由调阀控制流量。


      运行成本低，设备投资少


      操作方便、维护简便


      可靠性高


    主要客户： 德山化工1200Nm3/h


                   


   东岳化工600Nm3/h


                        


  亚东石化300Nm3/h


                      


  天成氯碱300Nm3/h


   


  五、氩气纯化装置工作原理：


       采用非蒸散型锆铝合金16吸气剂为净化剂,该吸气剂主要吸气相为Zr5AL4、Zr5AL3、Zr3AL2、Zr2AL等多种金属间化合物，活性高，扩散活化能低，当表面吸附着气体时，在一定温度下容易向体内扩散，具有吸气速率高、吸气容量大的特点。激活后在最佳吸气温度范围内能有效的吸收O2、N2、CO2、CO、H2、CH4和水汽等，锆铝合金不吸收He、Ar、Ne等惰性气体。所以使用该吸气剂来纯化精制Ar、Ne、He等惰性气体。


   


  典型用途：


     本产品净化器采用特殊结构，具有接触面积大，阻力小，净化效率高，热功损耗小等优点。本装置可与区熔硅单晶炉配套使用可用于激光器、溅射、半导体生产，气相色谱仪、特殊灯炮、稀有金属加工等需要用高纯氩气的生产技术领域。


   


 


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